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光學

模具電鍍NI-P電鍍

NAC-S1000

(超厚膜無電解Ni-P電鍍 NAC-S1000)
與鎳電鍍相比,擁有優秀的耐腐蝕性,在無電解鎳電鍍裡最常被使用。經過熱處理後,硬度可增加一倍左右,最適合用來代替硬質鉻,或是對耐磨耗性、硬度、精度有所要求的零件。

・2500μm超厚膜無電解Ni-P電鍍。

・均勻的P分散性使其能有良好的切削性。

・適用在所有的光學模具上。

・NACRO的Ni-P電鍍技術,可用一把鑽石切割刀,加工5km以上長度,且沒有任何崩裂。加工後的面精度平均為Ra 12.69nm。因採用均勻的P分散方法,所以不會給工具帶來額外的負擔。

・特徵值數據

薄膜組成

Ni:89±0.5%     P:11±0.5%

晶體結構

非晶態(Amorphous)

比重

7.75

g/cm2

熔點

890

電阻

90

μΩ/cm

導熱係數

0.02 

cal/cm sec℃

 

 

彈性係數

200

GPa

增長率

1

%

內部應力

0~-2

kg/mm2

磁性質

非磁性

熱膨脹系數

11.5~12

X 10-8℃

硬度

570~580

Hv

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附件 1  

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