光學
・2500μm超厚膜無電解Ni-P電鍍。
・均勻的P分散性使其能有良好的切削性。
・適用在所有的光學模具上。
・NACRO的Ni-P電鍍技術,可用一把鑽石切割刀,加工5km以上長度,且沒有任何崩裂。加工後的面精度平均為Ra 12.69nm。因採用均勻的P分散方法,所以不會給工具帶來額外的負擔。
・特徵值數據
薄膜組成 |
Ni:89±0.5% P:11±0.5% |
|
晶體結構 |
非晶態(Amorphous) |
|
比重 |
7.75 |
g/cm2 |
熔點 |
890 |
℃ |
電阻 |
90 |
μΩ/cm |
導熱係數 |
0.02 |
cal/cm sec℃ |
彈性係數 |
200 |
GPa |
增長率 |
1 |
% |
內部應力 |
0~-2 |
kg/mm2 |
磁性質 |
非磁性 |
|
熱膨脹系數 |
11.5~12 |
X 10-8℃ |
硬度 |
570~580 |
Hv |
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