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分析/評價設備

LED曝光模組搭配顯微鏡

UTA Series

半導體試驗形狀曝光(如二維材料,無光罩研發,曝光單位針對無光罩研發需求)
特色:1.曝光光源為LED,曝光時間以秒為單位進行設定。
2.不須大型曝光機,也可達成曝光需求。
3.與顯微鏡結合之桌上型小台式曝光機,價格實惠。
4.曝光pattern最小可至1微米(非保證值)。
5.曝光範圍(參考值):5倍鏡頭(1.85mm*1.15mm)
100倍鏡頭(90um*60um)
6.可單獨販售曝光模組。(*顯微鏡需寄到原廠,以便協助改裝)
7.可依照客戶需求進行載台客製。

半導體試驗形狀曝光

(如二維材料,無光罩研發,曝光單位針對無光罩研發需求)

◎顯微鏡LED曝光系統(UTA系列)為無須使用光罩即可進行形狀曝光的投影式曝光設備。

◎使用金屬顯微鏡及LED光源DLP投影機,因此可以於顯微鏡下進行校正,即可將解析度數μm的任意形狀投影於塗布光阻的基板上進行曝光。

◎欲曝光的圖形可以透過專用軟體自由編輯,並且將製作完成的圖形進行保存。另外,也可以讀取外部已製成的BMP檔案進行曝光。

  ◎此設備可以於各種大小、形狀的層狀物質單結晶薄片上在大氣的環境下製成電極所需圖形,因此與電子束曝光機相比之下,價格相較於便宜且使用方便性也較高。除此之外,也無需使用高單價的電極圖形製作光罩即可完成曝光。

 

<用途例>

薄膜FET或Hole效果量測用試料的電極形成。

從石墨烯・鉬原石取出的薄片,需進行原石特性評估時的電極形成。

研究開發用的曝光圖形製作。

<特徴>

此設備為顯微鏡和DLP投影機的組合設備,因此比現有市面上的其他曝光設備便宜。

光源用LED白光照射。可設定任意的曝光時間。

搭配易於使用的操作軟體,因此可以簡便的製作所需曝光圖形。→ 附有正負曝光轉換功能(可支援一鍵點擊)。

可以讀取其他軟體製作的複雜型BMP檔案進行照射。

透過不同物鏡倍率進行曝光,因此從細微的形狀到廣範圍的曝光需求皆可對應。

基本上可安裝在所有的顯微鏡上(需確認現有顯微鏡的規格後評估)。

可製作解析度數μm等級的形狀。

最小線寬約1μm(非保證值)

曝光範圍:物鏡  5X:約 1.85mm×1.15mm                 
                  物鏡    100X:約 90μm×57μm
※以上為UTA-1AS-53M-SET  的參考值。

 

▼專用軟體製作

▼專用軟體製作

▼形狀大小及位置設定

▼實際曝光設定

▼曝光後影像

 

 

Annex File 附件檔案

附件 1  

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